DLC kaplama makinesinin çalışma prensibi temel olarak iki ana prosesi içerir: kimyasal buhar biriktirme (CVD) ve fiziksel buhar biriktirme (PVD).
Kimyasal buhar biriktirme (CVD)
CVD, gaz fazındaki kimyasal reaksiyonlar yoluyla altlıkların yüzeyine ince filmler biriktirme yöntemidir. Esas olarak termal CVD ve plazma ile güçlendirilmiş CVD (PECVD) olarak ikiye ayrılır.
Termal CVD: İnce filmleri biriktirmek için reaksiyon gazını yüksek sıcaklıkta ayrıştırın. Geniş-alanda biriktirme için uygundur ancak sıcaklık kontrolü açısından yüksek gereksinimleri vardır.
PECVD: Düşük sıcaklıklarda yüksek-kaliteli DLC filmler oluşturmak amacıyla reaksiyon gazını (metan gibi) harekete geçirmek için plazmayı kullanın; bu, ısıya- duyarlı alt tabakalar için uygundur.
Fiziksel buhar biriktirme (PVD)
PVD, püskürtme veya buharlaşma gibi fiziksel işlemler yoluyla malzemeleri alt tabakaların yüzeyine biriktirir. Ana yöntemler şunları içerir:
Magnetron püskürtme: Alt tabakanın yüzeyinde karbon atomları biriktirmek amacıyla hedef malzemeyi bombardıman etmek için iyonları kullanın; bu, geniş-alanlı tekdüze kaplama için uygundur.
İyon ışını biriktirme: Daha yüksek pürüzsüzlük ve yapışma özelliğine sahip yoğun bir DLC filmi oluşturmak üzere alt tabakayı bombardıman etmek için yüksek- enerjili iyon ışınlarını kullanır.
