IBAE sistemi, elektron-ışını veya termal buharlaştırmayı entegre bir geniş- ışın iyon kaynağıyla birleştirir. Film büyümesi sırasında eşzamanlı iyon bombardımanı, kinetik enerjiyi yoğunlaşan adatomlara aktararak sütunlu mikro yapıları ortadan kaldırır ve minimum nem- kaynaklı spektral kayma ile neredeyse-yığın-yoğunlukta ince filmler üretir.
Teknik Özellikler
|
Parametre |
Şartname |
|
Taban Basıncı |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Çalışma Basıncı |
1,0 x 10^(-1) ila 1,0 x 10^(-2) Pa |
|
İyon Kaynağı Türü |
Izgarasız Uç-Salon / Kaufmann İyon Kaynağı |
|
İyon Işın Enerjisi |
50 eV - 1500 eV (kapalı-döngü stabil) |
|
İyon Işını Akım Yoğunluğu |
0 ila 2,5 mA/cm^2 |
|
Buharlaşma Kaynakları |
Çok-Cepli E-Işınlı Tabanca (4 x 15 cc - 6 x 40 cc) / Direnç botları |
|
Yüzey Tutucu |
300 derece C'ye kadar ısıtmalı planet rotasyon fikstürü |
|
Kalınlık Tekdüzeliği |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Kontrol Sistemi |
Siemens S7-1500 PLC + Endüstriyel PC (Inficon biriktirme kontrolörü) |
Temel Özellikler
İkili-Modlu Bombardıman:Kinetik enerji transferi, filmleri düşük alt katman sıcaklıklarında yoğunlaştırarak hassas optikleri ve polimer alt katmanları korur.
Kapalı-Döngü İyon Stabilizasyonu:Entegre kütle akış kontrolörleri, uzun üretim çalışmaları boyunca sabit iyon akışını sağlayarak parti tutarlılığını sağlar.
Modüler Vakum Odası:Elektro-parlatılmış iç kısmı olan 304L paslanmaz çelik yapı (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Otomatik Sıralama:PLC-yönetilen pompalama-düşürme, biriktirme ve havalandırma döngüleri operasyonel farklılıkları en aza indirir.
Vakum Sistemi Konfigürasyonu
Kaba İşleme Pompaları:Yağ-içermeyen kuru kökler ve döner kanatlı pompalar.
Yüksek Vakum Pompası:Manyetik olarak kaldırılan turbomoleküler pompa (1600 L/s).
Göstergeler:Pirani, soğuk katot ve Baratron kapasitans manometrelerinin kombinasyonu.
Valf:Donanım güvenlik kilitlerine sahip pnömatik sürgülü ve açılı vanalar.
Buharlaşma Malzemeleri ve Yüzey Uyumluluğu
Oksitler:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
Florürler:MgF2, LaF3
Metaller:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Yüzeyler:Erimiş silika, BK7, silikon levhalar, germanyum, çinko selenit (ZnSe) ve ısıya-dirençli polimid.
Uygulamalar
Hassas Optikler:Kararlı merkez dalga boyları gerektiren dar bant geçiş filtreleri ve DWDM kaplamaları.
Lazer Optik:Yüksek-hasar-eşikli reflektörler ve-yansımayı önleyici kaplamalar.
Yarı İletken ve Fotonik:Dielektrik koruyucu katmanlar, pasifleştirme ve optik dalga kılavuzları.
Güneş Enerjisi:Şeffaf iletken oksit (TCO) arayüz modifikasyonu.
Özelleştirme
Hazne Boyutlandırması:600 mm'den 1200 mm'ye kadar ölçeklenebilir çaplar.
Kaynak Düzeni:Platform başına en fazla üç e{0}}ışın tabancası ve birden fazla termal kaynak.
Yerinde- Metroloji:Geniş bant optik izleme (BOM) veya kuvars kristal mikro terazi (QCM) entegrasyonu.
Otomasyon:SEMI standartlarıyla uyumlu robotik alt tabaka yükleme arayüzleri.
Kalite Kontrol
Sızıntı Tespiti:Helyum kütle spektrometresi testi başına odacık (hassasiyet)<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Bileşen Kaynağı:1. Seviye endüstriyel markalar (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Fabrika Kabulü (FAT):Sevkiyattan önce 72 saatlik sürekli deneme çalışması ve kırılma indisi ve tekdüzelik ölçümü yapan doğrulama kaplaması.
Kurulum ve Teknik Destek
Belgeler:Elektrik şemaları, P&ID diyagramları ve PLC kaynak kodlarını içeren eksiksiz İngilizce paket.
Saha Hizmetleri:Uygulama mühendisleri tarafından anahtar teslim kurulum, vakum kalibrasyonu ve tarif ayarlama.
Uzaktan Teşhis:Yazılım ve süreç sorun giderme için Secure VPN modülü.
SSS
S: İyon yardımı oksit kırılma indeksini nasıl değiştirir?
C: Enerjik iyon bombardımanı, sıkışmış artık gazları dışarı atar ve mikro yapıyı yoğunlaştırarak Ta2O5 ve TiO2 gibi filmlerin kırılma indeksini kütle değerlerine yaklaştırır.
S: İyon kaynağının tipik bakım aralığı nedir?
C: Bakım aralıkları, proses gazlarına ve çalışma gücü yoğunluğuna bağlı olarak 150 ila 300 işlem saati arasında değişir.
S: Bu sistem reaktif gaz proseslerini yönetebilir mi?
C: Evet. Bağımsız kütle akış kontrolörleri, reaktif gazları (O2, N2) doğrudan iyon kaynağına ve hazne bölgelerine, güvenlik basınç anahtarlarıyla kilitlenmiş şekilde enjekte eder.
Popüler Etiketler: iyon ışını destekli buharlaşma ekipmanı, Çin iyon ışını destekli buharlaşma ekipmanı üreticileri, tedarikçileri, fabrika, İnce film yapışma ölçüm ekipmanı, İnce film kaplama ekipmanı, Blockchain cihazı üretim uygulamaları için ince film ekipmanı, MEMS üretim uygulamaları için ince film ekipmanı, Yarıiletken uygulamaları için ince film ekipmanı, İnce Film Test Ekipmanı
